Описание:

Установка бесконтактной (безмасковой) лазерной литографии для подложек от 5 мм до 350 мм, с метрологией и диагностикой поверхности.

Основные возможности:

• Субмикронная литография (разрешение 0,8 мкм - 8 мкм)
• Четыре режима сканирования (луч, столик, векторный, контурный)
• Лазерно-индуцированная обработка поверхности (фотоосаждение, фотохимия)
• Метрология и диагностика поверхности
• Обработка greyscale
• Быстрое изготовление прототипа безмасковой литографии
• Лазерная микроабляция
• Точность расположения структур ± 0.1 мкм
• Высокая автоматизация для увеличения производительности
• Не требует обслуживания
• Широкий спектр применений
• Автоматический или ручной режим работы
• Возможность обработки маленьких пластин размером 5x5 мм
• Возможность добавить второй источник лазерного излучения

Модели серии LI компании SUSS MicroTec благодаря технологии лазерной обработки поверхности являются идеальным инструментом, отвечающим различным требованиям исследовательских и производственно-контрольных лабораторий. Установка безмасочной лазерной литографии представляет собой устройство для прямой передачи изображения от системы автоматизированного проектирования на подложку и может использоваться как универсальное средство для формирования рельефа.

Рисунок формируется путем точного перемещения мишени (шаблона или подложки) под сфокусированным сканирующим лучом лазера. В системе используется долговечный лазер из GaN с длиной волны 405 нм. В то же время, данное устройство можно использовать для контроля поверхности и измерений благодаря сочетанию ПЗС-камеры и системы освещения с высокоточным перемещением столика по осям XYZ.

Широкий спектр применений

Благодаря своей универсальности установка безмасочной фотолитографии может использоваться для решения целого ряда задач как в рамках исследовательских и производственно-контрольных лабораториях, так и при мелкосерийном производстве в таких областях, как микрофлюидика, дифракционная оптика, МЭМС, конформное микроструктурирование, интегральные СВЧ-микросхемы.

Микрооптика

 

Силовые устройства

 

Датчики

 

МЭМС

Высокая производительность и гибкость

Запатентованная система автоматической фокусировки позволяет работать с подложками всех размеров, начиная от маленьких заготовок до полупроводниковых пластин размером 300 мм, обеспечивая формирование рисунка на всей поверхности до самого края. Лазерная система формирования изображения позволяет оптимально решать разнообразные задачи благодаря таким функциям как многоуровневая фокусировка луча и отслеживание неровностей поверхности. Кроме того, простой интерфейс на базе Windows и минимальные требования к обслуживанию позволяют использовать систему лазерной литографии в любой среде. Четыре режима формирования рельефа помогают подстроиться под любые требования к структурированию и производительности.

Прямое формирование рисунка с элементами субмикронного размера на подложках с нанесенным резистом

 

Формирование рисунка в SU-8 толщиной 30 мкм

 

Лазерно-индуцированная обработка поверхности

 

Производство фотошаблонов

Высокий уровень автоматизации для решения сложных задач

При структурировании сложных элементов устройство автоматической смены линз значительно улучшает производительность: автоматическое переключение между набором фокусирующих линз позволяет выбрать разрешение для рисунка. Выбор линзы занимает несколько секунд, механизм аналогичен стандартной револьверной головке микроскопа. Благодаря самым низким эксплуатационным расходам среди моделей этого класса, а также исключительной прочности и надежности эта система станет необходимым дополнением для любой лаборатории.

Источник лазерного излучения

Стандартная конфигурация: твердотельный GaN лазер с длиной волны 405 нм

• Компактный и легковесный для минимальных требований к размещению
• Высокая эффективность и продолжительный срок службы для минимального обслуживания
• Питание до 100 мВт для максимальной гибкости процессов
• Прямая модуляция для лазерного пучка (баз АОМ*) для лучшей стабильности и линейности ответа

*акустооптическая модуляция

Дополнительные источники лазерного излучения:

• Высокая мощность 405 нм для улучшения производительности на толстопленочных резистах со средним разрешением
• Источник 375 нм, 50 – 70 мВт, для литографии на толстопленочном негативном резисте, таком как SU-8
• ИК или пико/фемтосекундный лазер для микроабляции или прямой обработки поверхности

Оптическая фокусирующая система

Фокусирующие линзы встроены в базовую систему

• Доступные разрешения 0,8, 2, 4, и 8 мкм
• Механизм автоматической замены линз

Оптический автофокус запатентованной конструкции

• Максимальное разрешение на большой площади
• Разметка поверхности для формирования рисунка на выпуклых, вогнутых или наклонных поверхностях
• Нанесение рисунка до края подложки и на небольших частях полупроводниковых пластин

Устройство автоматической замены линз

• Программно-настраиваемое разрешение при формировании рисунка, для улучшения характеристик и производительности
• Для автоматического прогона сложных топологий без контроля со стороны оператора

Литография в серой шкале

• Последовательное экспонирование элементов
• До 256 уровней/пиксель, размер пикселя от 0,1 до 1 мкм

Высокоточная диагностика и контроль поверхности

• Фокусирующая система выступает в роли микропрофилометра поверхности с разрешением 100 нм

Базовая технология – режимы формирования рисунка

Возможность выбирать режим формирования рисунка в зависимости от сложности элементов является чрезвычайно важной для улучшения производительности системы. Кроме того, лазерная система формирования изображений с запатентованным ПО LaserDraw позволяет автоматически выбирать и переключать различные режимы в рамках одного процесса. 

В режиме сканирования с помощью луча рисунок делится на полосы, которые записываются с помощью растрового сканирования. Луч модулируемого лазера равномерно перемещается над подложкой в направлении перпендикулярном длине полосы, пока подложка движется вдоль полосы.

В режиме сканирования с помощью столика для получения растра столик перемещается вперед и назад, в то время как луч остается неподвижным.

Векторный режим подходит для быстрого структурирования отдельных элементов. Здесь система формирования изображения последовательно прочерчивает каждую линию, составляющую рисунок.

В контурном режиме столик перемещается по прямой или криволинейной траектории под неподвижным лазерным лучом.

Схема формирования рисунка

Модельный ряд: обзорная таблица

Технические характеристики: